2019届高功率脉冲磁控溅射沉积薄膜技术与应用专题会议

    2019年7月28~30日，“2019届高功率脉冲磁控溅射沉积薄膜技术与应用专题会议”在兰州召开，通过会议交流、深入讨论及与国际知名企业对接，推动我国高功率脉冲磁控溅射沉积薄膜技术的发展。会议结束后，参会代表来兰州华汇仪器科技有限公司参观交流，针对实验室仪器设备我司人员为各位代表进行详细的讲解。